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国林科技:臭氧发生器及功用水设备可用于存储芯片清洗与薄膜堆积环节
发布时间: 2025-11-27 20:57:38 |   作者: 竞技宝官网入口登录

  

国林科技:臭氧发生器及功用水设备可用于存储芯片清洗与薄膜堆积环节

  有出资者在互动渠道向国林科技发问:“公司2023年2月9日互动易回复:公司现在出兵的光伏用高浓度臭氧水机大多数都用在出产HJT异质结类型电池板,主要在制绒,清洗和薄膜堆积工序运用。这是公司曾经的回复风格,直接诚实。请公司按照一致性准则,就公司现在出兵的存储芯片用臭氧设备的详细技能工艺和运用场景进行介绍。谢谢!”

  针对上述发问,国林科技回应称:“敬重的出资者,您好。国林半导体所出兵臭氧发生器以及各类功用水设备可运用于存储芯片制作工艺中的清洗与薄膜堆积环节。感谢您的重视。”

  声明:商场有危险,出资需谨慎。本文为AI根据第三方数据生成,仅供参考,不构成个人出资主张。

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